陶瓷噴涂工藝是一個需要細心的工作,并且在這個過程中能夠影響大涂層質量的因素有很多。
那么主要流程有:
1.選擇等離子氣體。根據氣體的可用性和經濟性來說,選擇N2比較合適。它不僅便宜,并且它的離子的焰熱比較高,并且傳熱也比較快。但是對于一些易于發生氮化反應的材料是不可用的,這時候會采用稍微昂貴一點的Ar。
2.電弧的功率。工藝過程中,對于電弧的功率要求也是很嚴格的,既不能太高,也不能太低。電弧功率過高,就會使電弧溫度升高,并且會將氣體轉化為等離子體,而等離子火焰溫度也會升高,就有可能導致涂層的性質變化。而電弧功率過低,會使等離子溫度過低,也會使涂層的性質改變。